連続製造技術は、医薬品の品質に大きなインパクトを与える
2012年に米国食品医薬品局(FDA)は、連続製造技術の利点について上記のように力説しています。連続製造技術を用いて医薬品製造を行うことで信頼性、安全性、効率および応答性/自由度がより向上し、かつ製造コスト削減を達成することが可能です。
2012年より当社が得意とする均一系触媒技術と連続フロー製造技術を組み合わせることに取り組んできました。しかしながら、その道のりは厳しく困難を極めましたが、今では当社の重要な製造技術のひとつに至りました。
当社では、Pipe Flow Reactor(PFR)および Continuously Stirred Tank Reactor(CSTR)およびIntermittent Stirred Tank Reactor(iSTR)装置を研究所および磐田/掛川工場に有しており、医薬品中間体の製造プロセスに利用することが可能です。
2015年から連続フロー製造技術を用いた商業化製造を開始し、累計100MTのGMP製造を行ってきました。2016年に磐田工場の製造設備に関してFDAによる査察が行われました。
さらに2018年にLAH還元剤を使用し、連続反応装置を活用して研究レベルからGMPトンスケールの製造まで成功しました。
今後も、上記連続フロー製造設備を当社差別化技術として展開を行い、迅速にお客様に医薬品中間体を届けてまいります。
* “FDA Perspective on Continuous Manufacturing”, S. Chatterjee, IFPAC Annu. Meet. Jan. 22-25, 2012, Baltimore. MD, USA. PDF
- Org. Process Res. Dev. 2016, 20, 1305–1320. doi.10.1021/acs.oprd.6b00137
- Org. Process Res. Dev. 2017, 21, 1447−1451. doi.10.1021/acs.oprd.7b00234
- Org. Process Res. Dev. 2019, 23, 452–461. doi.10.1021/acs.oprd.8b00338
連続フロー製造の歩み
- 1983
-
- Started Telomerization with Horizontal Pipe Flow Reactor
- 1985
-
- Started Continuous Distillation
- 2013
-
- Installed Vertical Pipe Flow Reactor (Kakegawa)
- 2014
-
- Installed Vertical Pipe Flow Reactor (Iwata)
- Installed CSTR with Counter Current Extraction
- 2015
-
-
3 Process Validations for GMP intermediates with Continuous Flow Started commercial production
-
- 2016
-
- FDA Inspected at Iwata
- 2018
-
- GMP intermediate (ton scale) in continuous flow by the reducing agent LAH
連続フロー装置一覧
Stage |
Type |
Size |
Pressure |
Temp. |
Object |
Capacity |
---|---|---|---|---|---|---|
Laboratory |
Tube reactor H-Cube Pipe Flow Reactor |
1~60ml |
5MPa |
0~150℃ |
Catalyst screening Feasibility study |
~5kg |
Demonstration
|
Tube reactor |
350ml |
5MPa |
0~150℃ |
Optimization |
~50kg |
CSTR X 2 Glass & Stainless Steel |
10&20L |
– |
-70~180℃ |
Optimization Commercial |
~5MT |
|
Factory
|
Distillation Tower |
Various |
Full Vacuum |
|
Commercial |
~100MT |
Pipe Reactor |
100L |
5MPa |
0~200℃ |
Commercial |
~20MT |
|
Pipe Reactor |
200L |
5MPa |
0~200℃ |
Commercial |
~70MT |
|
CSTR |
200L |
– |
-50~150℃ |
Commercial |
~100MT |
連続フロープロセス
商業化
- 不斉水素化
- 還元的不斉アミノ化(DARA)
- 還元(アミノ)化 / ロイカート‐ヴァラッハ反応
- 動的光学分割法(dynamic kinetic resolution;DKR)
- Lithium aluminum hydride (LAH)還元剤を用いた還元反応
- チャン・ラム・エヴァンス(Chan-Lam-Evans)カップリング反応
開発
- グリニャール反応
- エステル還元